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天眼查App顯示，上海新陽半導體材料股份有限公司于2023年6月30日申請了一項名為“一種清洗液的制備方法”的發(fā)明專利，并于2024年12月31日正式公開。該專利由王溯、蔣闖、馮強強、于仙仙、張怡、王瑋、程鑫共同發(fā)明，專利號為CN202310795351.5。

該清洗液的制備方法包括將氧化劑、胺類有機物、緩蝕劑、螯合劑、表面活性劑以及水按特定比例混合。其中，胺類有機物為氮烷基氫氧化銨和/或醇胺，螯合劑為未取代或被一個或多個C1-C4烷基取代的n乙烯m胺、多乙烯多胺和含氮有機酸中的一種或多種，表面活性劑為聚醚酰亞胺和/或聚乙酸乙烯酯。該清洗液不含氟化銨和金屬離子，具有較佳的清洗效果和腐蝕效果。

上海新陽半導體材料股份有限公司位于上海市松江區(qū)思賢路3600號，此次發(fā)明的清洗液制備方法有望在半導體材料清洗領域得到廣泛應用，提升清洗效率和環(huán)保性能。

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